辐射固化技术基础化学

辐射固化的基本化学反应是由UV或EB辐射（主要使用UV紫外线辐射）引起的不饱和化合物聚合。
UV和EB两种固化方法之间的差异在于能量和生成的差异自由基不同的来源。 就固化系统而言，UV固化系统必须包含光引发剂，而EB固化体系不包含光引发剂。 另外，它们的其余部分由低聚物组成，活性稀释剂，阻聚剂，辅助试剂由四部分组成。 低聚物是在末端具有不饱和基团的大分子化学物质，其决定了固化膜的基本性能。 目前，常用的低聚物是双酚A环氧丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯，聚氨酯丙烯酸酯和不饱和聚酯八种化合物。

活性稀释剂是末端带有不饱和基团的单体化合物，分为两种类型：单官能和多功能，例如三甲基丙烷三丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，乙烯基吡啶，苯乙烯等十种 化合物。 常用的光敏剂为自由基型光引发剂，在紫外线照射下，成为激发态并分裂产生自由基，或从结合的三级胺或共存碳氢化合物中提取氢而生成自由基。
，常用的光敏剂有安息香双甲醚，二甲苯等九种化合物。

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